Scintillation အရည်ကြည်
(Sub Surface Laser Engraving)
အာရုံစူးစိုက်မှုအခြေခံသည့် စက်ကိရိယာများpixelated inorganic crystal scintillators များကို အသုံးပြုထားသည်။အမှုန်အမွှားနှင့် ဓာတ်ရောင်ခြည် ထောက်လှမ်းခြင်းအတွက် အသုံးများသည်။တွင် အပါအဝင်positron emission tomography (PET) စကင်နာများ.
အလင်းလမ်းညွှန်အင်္ဂါရပ်များကို crystal သို့ထည့်ခြင်းဖြင့် detector ၏ spatial resolution ကိုမီလီမီတာ စကေးကို မြှင့်တင်နိုင်ပြီး မိုမီဂရပ်၏ အလုံးစုံ ကြည်လင်ပြတ်သားမှုကို မြှင့်တင်နိုင်သည်။
သို့သော် ရိုးရာနည်းလမ်းဖြစ်သည်။ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာ pixelatingcrystals သည် aရှုပ်ထွေးသော၊ ဈေးကြီးပြီး ပင်ပန်းခက်ခဲသော လုပ်ငန်းစဉ်. ထို့အပြင်၊ detector ၏ထုပ်ပိုးမှုအပိုင်းနှင့် အာရုံခံနိုင်စွမ်း၊အပေးအယူလုပ်နိုင်ပါတယ်။ကြောင့်ရောင်ပြန်ဟပ်ခြင်းမရှိသော ရောင်ပြန်ပစ္စည်းများကို အသုံးပြုသည်။
မူရင်းသုတေသနစာတမ်းကို ဤနေရာတွင် ကြည့်ရှုနိုင်ပါသည်။ (သုတေသနဂိတ်မှ)
Subsurface Laser Engraving ပြုလုပ်ပေးခြင်းScintillation အရည်ကြည်
အခြားနည်းလမ်းတစ်ခုသည် အသုံးပြုမှုဖြစ်သည်။မြေအောက်လေဆာ ထွင်းထုခြင်း (SSLE) နည်းပညာများscintillator crystals များအတွက်။
ပုံဆောင်ခဲအတွင်းမှ လေဆာကို အာရုံစူးစိုက်ခြင်းဖြင့် အပူဓာတ်ကို ထုတ်ပေးသည်။microcracks ၏ထိန်းချုပ်မှုပုံစံကိုဖန်တီးနိုင်သည်။အဲဒါရောင်ပြန်ဖွဲ့စည်းပုံများအဖြစ်ဆောင်ရွက်သည်။, ထိထိရောက်ရောက်ဖန်တီးပါ။အလင်းလမ်းညွှန်သည့် pixels များရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာခွဲခြားမှုမလိုအပ်ဘဲ။
1. Crystal ၏ ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာ pixelation မလိုအပ်ပါ၊ရှုပ်ထွေးမှုနှင့် ကုန်ကျစရိတ်ကို လျှော့ချပေးသည်။.
2. အဆိုပါ optical ဝိသေသလက္ခဏာများနှင့် ဂျီသြမေတြီသည် ရောင်ပြန်ဖွဲ့စည်းပုံများ ဖြစ်နိုင်ပါသည်။အတိအကျထိန်းချုပ်ထားသည်။စိတ်ကြိုက် pixel ပုံသဏ္ဍာန်များနှင့် အရွယ်အစားများ၏ ဒီဇိုင်းကို ဖွင့်ပေးသည်။
3. Readout နှင့် detector ဗိသုကာစံ pixelated arrays များအတွက် တူညီနေပါသည်။
Scintillator Crystal အတွက် Laser Engraving Process (SSLE)
SSLE ထွင်းထုခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်တွင် ပါဝင်ပါသည်။အောက်ပါအဆင့်များ:
1. ဒီဇိုင်း-
ပုံသဏ္ဍာန်နှင့်ဒီဇိုင်းအလိုရှိသော pixel ဗိသုကာအပါအဝင်အတိုင်းအတာများနှင့်optical လက္ခဏာများ.
2. CAD မော်ဒယ်-
ဖန်တီးမှုတစ်ခုအသေးစိတ် CAD မော်ဒယ်microcrack ဖြန့်ဖြူးမှု၏simulation ရလဒ်များအပေါ်အခြေခံသည်။နှင့်လေဆာထွင်းထုသတ်မှတ်ချက်များ.
3. စတင် ထွင်းထုခြင်း-
လေဆာစနစ်ကို အသုံးပြု၍ LYSO crystal ၏ အမှန်တကယ် ထွင်းထုခြင်း၊CAD မော်ဒယ်က လမ်းညွှန်တယ်။.
SSLE ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်ရေးလုပ်ထုံးလုပ်နည်း- (A) သရုပ်သကန်ပုံစံ၊ (B)CAD မော်ဒယ်၊ (C) ရေးထွင်းထားသော LYSO၊ (D) Field Flood Diagram
4. ရလဒ်အကဲဖြတ်ခြင်း-
ထွင်းထုထားသော ပုံဆောင်ခဲ၏ စွမ်းဆောင်ရည်ကို အကဲဖြတ်ခြင်းရေဘေး ကွင်းပုံရိပ်နှင့်Gaussian လျောက်ပတ်သည်။pixel အရည်အသွေးနှင့် spatial resolution အကဲဖြတ်ရန်။
မြေအောက်လေဆာ ထွင်းထုခြင်းကို ၂ မိနစ်အတွင်း ရှင်းပြထားသည်။
ဟိမြေအောက်လေဆာထွင်းထုနည်းပညာscintillator crystals များအတွက် a ပေးထားသည်။အသွင်ပြောင်းချဉ်းကပ်မှုဤပစ္စည်းများ၏ pixelation ကို။
ဤနည်းလမ်းသည် အလင်းပြန်သောဖွဲ့စည်းပုံများ၏ အလင်းဝိသေသလက္ခဏာများနှင့် ဂျီသြမေတြီများအပေါ် တိကျသောထိန်းချုပ်မှုပေးခြင်းဖြင့်၊ဆန်းသစ်သော detector ဗိသုကာများကို ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်စေပါသည်။အတူပိုမိုကောင်းမွန်သော spatial resolution နှင့်စွမ်းဆောင်ရည်၊အားလုံးမပါဘဲရှုပ်ထွေးပြီး ငွေကုန်ကြေးကျများသော ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာ pixelation အတွက် လိုအပ်သည်။
အကြောင်းပိုမိုသိရှိလိုပါက-
Subsurface လေဆာ ထွင်းထုခြင်း Scintillation Crystal?
SSLE Scintillation Crystal အတွက် တွေ့ရှိချက်များ
1. အလင်းအထွက်နှုန်းကို ပိုမိုကောင်းမွန်စေသည်။
ဘယ်ဘက်- ထွင်းထားသော မျက်နှာပြင် အလင်းပြန်မှု အချိုးမညီမှု DoI အနှစ်ချုပ်။
ညာဘက်- Pixel Displacement DoI။
ပဲမျိုးစုံတို့ရဲ့ နှိုင်းယှဉ်ချက်မြေအောက်လေဆာဖြင့်ထွင်းထားသော (SSLE) ခင်းကျင်းမှုများနှင့်သမားရိုးကျ arraysa သရုပ်ပြသည်။SSLE အတွက် အလင်းအထွက်နှုန်း ပိုကောင်းသည်။.
ကြောင့်ဖြစ်ဖွယ်ရှိသည်။ပလတ်စတစ်ရောင်ပြန်ဟပ်မှု မရှိခြင်း။pixels များကြားတွင် optical mismatching နှင့် photon ဆုံးရှုံးမှုကို ဖြစ်စေနိုင်သည်။
တိုးတက်သောအလင်းအထွက်နှုန်းကိုဆိုလိုသည်။တူညီသောစွမ်းအင်ပဲမျိုးစုံအတွက်ပိုမိုအလင်း, SSLE ကို နှစ်လိုဖွယ်ကောင်းသော လက္ခဏာတစ်ခု ဖြစ်စေသည်။
2. ပိုမိုကောင်းမွန်သော အချိန်ဆွဲခြင်း အပြုအမူ
Scintillation Crystal ၏ရုပ်ပုံ
Crystal အရှည်တစ်ခုရှိပါတယ်။အချိန်ကိုက်ခြင်းအပေါ် သက်ရောက်မှုရှိသည်။Positron Emission Tomography (PET) အပလီကေးရှင်းများအတွက် အရေးကြီးပါသည်။
သို့သော်၊SSLE ပုံဆောင်ခဲများ၏ အာရုံခံနိုင်စွမ်း ပိုမြင့်မားသည်။၏အသုံးပြုမှုကိုခွင့်ပြုပါတယ်။ပိုတိုသော crystals၊စနစ်၏အချိန်ကိုက်အမူအကျင့်ကိုတိုးတက်စေသည်။
ဆဋ္ဌဂံပုံသဏ္ဍာန် သို့မဟုတ် လေးထောင့်ပုံသဏ္ဍာန်ကဲ့သို့ မတူညီသော pixel ပုံသဏ္ဍာန်များ ရှိနိုင်သည်ဟု သရုပ်သကန်များက အကြံပြုထားသည်။ပိုမိုကောင်းမွန်သောအလင်းလမ်းညွှန်မှုနှင့် အချိန်ကိုက်စွမ်းဆောင်ရည်ကို ဖြစ်ပေါ်စေသည်။optical fibers ၏ အခြေခံသဘောတရားများနှင့် ဆင်တူသည်။
3. ကုန်ကျစရိတ်သက်သာသော အားသာချက်များ
Scintillator Crystal ၏ရုပ်ပုံ
monolithic လုပ်ကွက်များနှင့် နှိုင်းယှဉ်ပါက SSLE ပုံဆောင်ခဲများ၏ စျေးနှုန်းသည်အဖြစ်နည်းနိုင်ပါတယ်။သုံးပုံတစ်ပုံကုန်ကျစရိတ်pixel အတိုင်းအတာများပေါ်မူတည်၍ သက်ဆိုင်ရာ pixelated array ၏
ထို့ အပြင်၊SSLE ပုံဆောင်ခဲများ၏ အာရုံခံနိုင်စွမ်း ပိုမြင့်မားသည်။ခွင့်ပြုသည်။တိုတောင်းသော crystals များအသုံးပြုခြင်း။, စုစုပေါင်းကုန်ကျစရိတ်ကိုပိုမိုလျှော့ချ။
SSLE နည်းပညာသည် လေဆာဖြတ်တောက်ခြင်းထက် နိမ့်ကျသော လေဆာပါဝါ လိုအပ်ပါသည်။စျေးနည်းသော SSLE စနစ်များလေဆာအရည်ပျော်ခြင်း သို့မဟုတ် ဖြတ်တောက်ခြင်းဆိုင်ရာ အဆောက်အအုံများနှင့် နှိုင်းယှဉ်ပါ။
ဟိအခြေခံအဆောက်အအုံနှင့် လေ့ကျင့်ရေးတွင် ကနဦးရင်းနှီးမြှုပ်နှံမှုSSLE အတွက် လည်း သိသိသာသာနိမ့်သည်။PET detector တီထွင်မှုကုန်ကျစရိတ်ထက်.
4. ဒီဇိုင်းပြောင်းလွယ်မှုနှင့် စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်ခြင်း။
SSLE ပုံဆောင်ခဲများကို ထွင်းထုခြင်း၏ လုပ်ငန်းစဉ်သည်အချိန်ကုန်တာမဟုတ်ဘူး။အနီးစပ်ဆုံး၊၁၅ မိနစ်12.8x12.8x12 mm၊ 3- crystal array ကို ရေးထွင်းရန် လိုအပ်သည်။
ဟိပြောင်းလွယ်ပြင်လွယ်သဘောသဘာဝ, ကုန်ကျစရိတ်-ထိရောက်မှု, နှင့်SSLE crystals ၏ပြင်ဆင်မှုလွယ်ကူခြင်း။သူတို့နှင့်အတူသာလွန်သောထုပ်ပိုးမှုအပိုင်းအစ၊ လျော်ကြေးပေးသည်။အနည်းငယ်နိမ့်သော spatial resolutionစံ pixelated arrays များနှင့်နှိုင်းယှဉ်။
သမားရိုးကျမဟုတ်သော Pixel Geometries
SSLE ၏ရှာဖွေရေးများအတွက်ခွင့်ပြုပါတယ်။သမားရိုးကျမဟုတ်သော pixel ဂျီသြမေတြီများစူးရှသော pixels များဖြစ်နိုင်စေခြင်း၊အပလီကေးရှင်းတစ်ခုစီ၏ သီးခြားလိုအပ်ချက်များနှင့် တိကျစွာကိုက်ညီပါသည်။collimators သို့မဟုတ် silicon photomultiplier pixels များ၏အတိုင်းအတာများ။
ထိန်းချုပ်ထားသော အလင်းမျှဝေခြင်း
ထွင်းထားသော မျက်နှာပြင်များ၏ အလင်းပိုင်းလက္ခဏာများကို တိကျသော ခြယ်လှယ်မှုဖြင့် ထိန်းချုပ်ထားသော အလင်းခွဲဝေမှုကို ရရှိနိုင်သည်။gamma detectors များ၏ နောက်ထပ်သေးငယ်သော အသွင်ပြောင်းမှုကို ကူညီပေးသည်။
ထူးခြားဆန်းပြားသောဒီဇိုင်းများ
ထူးခြားဆန်းပြားသောဒီဇိုင်းများVoronoi tessellations ကဲ့သို့သော၊ ဖြစ်နိုင်သည်။monolithic crystals များအတွင်းတွင် အလွယ်တကူ ထွင်းထုထားသည်။. ထို့အပြင်၊ pixel အရွယ်အစားများကို ကျပန်းခွဲဝေခြင်းသည် ကျယ်ပြန့်သောအလင်းမျှဝေမှု၏အခွင့်ကောင်းကိုရယူကာ ဖိသိပ်ထားသော အာရုံခံနည်းပညာများကို နိဒါန်းပျိုးနိုင်မည်ဖြစ်သည်။
Subsurface လေဆာ ထွင်းထုခြင်းအတွက် စက်များ
Subsurface လေဆာဖန်တီးမှု၏ဗဟိုချက်မှာ လေဆာထွင်းထုစက်တွင် တည်ရှိသည်။ ဒီစက်တွေက သုံးတယ်။စွမ်းအားမြင့် အစိမ်းရောင်လေဆာ၊ အထူးပြုလုပ်ထားသည်။ပုံဆောင်ခဲဖြင့် မျက်နှာပြင်ကို လေဆာဖြင့် ထွင်းထုထားသည်။
ဟိတစ်ခုတည်းသောဖြေရှင်းချက်Subsurface Laser Engraving အတွက် သင်အမြဲလိုအပ်လိမ့်မည်။
ထောက်ခံပါတယ်။6 ကွဲပြားခြားနားသောဖွဲ့စည်းပုံများ
ထံမှSmall Scale ဝါသနာရှင် to အကြီးစားထုတ်လုပ်မှု
ထပ်ခါတလဲလဲ တည်နေရာ တိကျမှု at <10μm
ခွဲစိတ်မှု တိကျမှု3D လေဆာ ထွင်းထုခြင်းအတွက်
3D Crystal Laser ထွင်းထုစက်(SSLE)
Subsurface Laser Engraving အတွက်၊တိကျမှုက အရေးကြီးတယ်။အသေးစိတ်နှင့် အနုစိတ်သော ထွင်းထုများကို ဖန်တီးရန်။ လေဆာရဲ့ focused beam ပါ။အတိအကျ အပြန်အလှန် တုံ့ပြန်သည်။crystal ၏ အတွင်းပိုင်းဖွဲ့စည်းပုံနှင့်၊3D ရုပ်ပုံဖန်တီးခြင်း။
အိတ်ဆောင်၊ တိကျမှုနှင့် အဆင့်မြင့်
ကျစ်လစ်သောလေဆာကိုယ်ထည်SSLE အတွက်
Shock-Proof&Beginners များအတွက် ပိုစိတ်ချရပါတယ်။
လျင်မြန်သော Crystal ထွင်းထုခြင်း။3600 မှတ်/စက္ကန့်အထိ
ကြီးမြတ်လိုက်ဖက်မှုဒီဇိုင်း၌